某光电器件制造出各个企业因晶圆进行维护清洁工作存在含氨废水治理方法，蓄水量200吨/天。废水治理方法中除氧化还原电位外还带有氟化物和少量天价属，治理关卡大。各地排放口标准规定需求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣组成成分及来历 晶圆除垢废水处理方法（主要主要来源）：含高锰酸盐指数200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程电镀废水：含氢化物发生器铜、镍等巨资属，pH值震荡大 CMP精磨焦化废水：含硅粒子及氧化还原电位 工作技术流程步骤 选用"物理石雕文化沉淀+膜分離+折点氯化"組合加工： 预正确处理 ：加药系统CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 超滤膜整体 ：洗去0.01μm以上的科粒物 反参透原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将高锰酸盐指数浸提至1000mg/L以上的 折点氯化 ：精确度操控氯加药系统量，将氟化物转化成为N2 亚铁离子互换 ：保障机制血本属及格 结果英文结果 挥发酚维持＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属成分高出论文检测限 水循环率达75% 工业废水呈现量缩减40%