昆明某半导体设备存储芯片制造出厂，晶圆生产进程中生产含硅、氟的特种废污水治理 ，方案治理 总量1200吨/日。废污水治理 含量冗杂，含有纳米级级硅颗粒肥料及氢氧化钠，老式治理 做法难符合标准。 废气的成分及来原 重要污染源物 ：溶液硅（100-500nm孔径）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 来源于程序 ：晶圆刻蚀化工废液（45%）、CMP化学上机械装置镜面抛光化工废液（40%）、装置冲干净水（15%） 外理方法流程图 企业创新进行"生物滤渣+特种车膜分割"科技路径： 钙盐沉淀物 ：加药氯化钙避开氟铁离子（自动生成CaF2悠长岁月中） 二沉池反馈 ：组合斜管沉淀池剂构建固体硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔直径膜截流微细颗粒肥料 反侵入软件 ：脱盐率>98%，利用率75% 化掉成果 ：浓水段实现目标氟化物零排污 结果效率 氟化物密度：<8mg/L（降到各国6级准则10mg/L） 硅浓度：<5mg/L 水资原循环率：70%用到加热塔皮肤补水 垃圾回收利用：多效蒸发食物残渣量较传统的技艺少60%